转自：上观新闻

创新是企业重要的核心竞争力之一，如今越来越多的企业开始注重知识产权的保护创新成果得来不易，既可以通过商业秘密进行保护，也可以通过申请专利进行保护，这让不少企业在申请时有点不知所措犯了难如何才能选择更合适的保护方式呢？其实二者虽然同属知识产权范畴，但还是有明显的区别。

搞懂这些区别，就不会再有选择困难症了

区别1:是否需要公开商业秘密不需要公开，且“秘密性”需达到不为所属领域的相关人员普遍知悉和容易获得的标准因此，商业秘密保护的是不为公众所知悉、具有商业价值并经权利人采取相应保密措施的经营信息、技术信息等商业信息。

专利制度则恰恰相反，它本身就是用公开换垄断，从而促进社会技术进步。因此，专利保护的是处于公开状态的技术方案。

区别2：保护的期限和取得方式不同商业秘密，只需要随着秘密信息的建立和形成而自动产生，不需要申请、审查、注册、登记、续费等手续，且没有保护期限的限制专利，必须由专利权人向国家知识产权局申请，并通过相应审查。

并且专利存在着不同的保护期限，根据《专利法》规定，发明专利的期限是20年，实用新型的期限是10年，外观设计的期限是15年专利保护期限到期后，则会进入公知公用领域同时值得注意的是，专利每年都是需要支付年费的，未缴年费将面临专利失效的风险！。

区别3:保护的地域不同商业秘密的保护无地域限制由企业根据自己的需要在不同的国家、地区自行或许可他人进行使用，同时也由企业自行采取保密措施进行保护专利权保护有地域限制专利权的取得依国家法律产生，其只在获得授权的国家或地区内有效。

区别4：技术的难易程度如果该技术容易通过反向工程被破解，则可以选择以专利方式保护；如果难以被破解、模仿和抄袭，则可以作为商业秘密进行保护要注意的是：如果通过自行开发、反向工程等途径与商业秘密权人相同或类似的信息，商业秘密的权利人是无权进行干预的，因此通过商业秘密保护丧失权利的可能性也较大。

虽然两者都是知识产权保护方式，但商业秘密更适合保护无法公开、技术更新迭代慢的商业信息和技术，如公司战略、生产流程、技术图纸、客户信息等，而专利更适合保护技术创新和发明搞清两者的区别，企业在申请知识产权保护的时候，可以根据自己技术的实际情况选择更为合适的保护方式，以此来更好保护重要的创新成果。

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